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單晶爐需要控制的方面

更新時(shí)間:2011-07-04      點(diǎn)擊次數(shù):2249
       單晶爐需要控制的方面

       單晶爐是一種在惰性氣體環(huán)境中,用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生長(zhǎng)無(wú)錯(cuò)位單晶的設(shè)備。

          一、晶體直徑   

          二、溫度   

          三、原料   

          四、泄漏率,氬氣質(zhì)量等   

        

深圳市利方達(dá)科技有限公司

在香港、深圳、上海開(kāi)設(shè)了子公司;公司專(zhuān)注國(guó)外的真空、鍍膜設(shè)備核心部件、儀器、零部件的代理銷(xiāo)售、服務(wù)、以及各種真空非標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)的生產(chǎn)開(kāi)發(fā),同時(shí)向國(guó)外宣傳和銷(xiāo)售國(guó)內(nèi)的產(chǎn)品;主要產(chǎn)品:真空測(cè)量?jī)x,氣體流量計(jì),真空鍍膜機(jī)三洋伺服電機(jī)等。公司擁有雄厚的技術(shù)力量和的員工團(tuán)隊(duì),*的服務(wù),為客戶提供*的真空配備方案,解決客戶真空應(yīng)用難題,使客戶成本降到zui低;為此我們得到了業(yè)界的稱(chēng)譽(yù),擁有了大量的客戶群體。我們將更一如繼往努力的維護(hù)客戶,回報(bào)客戶對(duì)我們的信任。期待你的來(lái)電??!

    
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