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真空檢漏的工作條件

更新時(shí)間:2018-09-19      點(diǎn)擊次數(shù):2615
真空自耗電弧爐是目前世界上熔煉鈦、鋯等稀有金屬的主要設(shè)備,由于其在真空下能有效的降低金屬及其合金中的氣體含量,更準(zhǔn)確的控制化學(xué)成分,改善鑄錠的質(zhì)量等優(yōu)勢(shì),因而被廣泛應(yīng)用。
 
 
檢漏儀要工作必須使檢漏儀內(nèi)部真空系統(tǒng)正常工作,因此檢漏儀機(jī)械泵8、分子泵1 和電磁閥V1 串聯(lián)工作,達(dá)到質(zhì)譜室所需要的高真空,滿(mǎn)足離子源可靠工作時(shí)即達(dá)到檢漏儀工作條件,即我們所說(shuō)的自檢通過(guò)。
 
②滿(mǎn)足檢漏口14 達(dá)到1000 Pa 以下,由于真空自耗電弧爐容積約2~3m3,因此無(wú)法使用檢漏儀自身的真空泵進(jìn)行爐室抽空,必須使用電弧爐的真空系統(tǒng)作為檢漏儀的輔助系統(tǒng)對(duì)其抽空,從而滿(mǎn)足檢漏口1000 Pa 以下的使用要求。
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